반도체 설비에서 사용되는 가스의 몰 질량과 챔버 내부 압력은 밀접한 관계가 있다. 가스의 특성과 압력 조건에 따라 질량 유량, 확산 속도, 반응성이 달라지기 때문이다. 이를 이해하기 위해 이상 기체 방정식과 압력 변화에 따른 거동을 살펴보겠다.1. 이상 기체 방정식과 압력의 영향이상 기체 상태 방정식은 다음과 같다.PV = nRT이를 변형하면 몰 수(n)는 다음과 같이 표현된다.n = PV / RT여기서 P = 압력 (atm) V = 부피 (L) n = 몰 수 (mol) R = 기체 상수 (0.0821 L·atm/(mol·K)) T = 절대 온도 (K) 이 식에서 알 수 있는 것은 챔버 내부 압력이 증가하면 같은 부피 내에서 몰 수(n)가 증가한다는 점이다. 즉, 같은 부피에 더 많은 기체 분..
